陶瓷材料真空等離子清洗機(jī)
- 產(chǎn)品編號(hào):TS-PL200MA
- 產(chǎn)品規(guī)格: 東信高科
- 產(chǎn)品用途:
表面清洗、活化、粘結(jié)性能改善
產(chǎn)品介紹
真空等離子清洗機(jī)
它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定真空負(fù)壓的狀態(tài)下,以電能將氣體轉(zhuǎn)化為活性極高的氣體等離子體,氣體等離子體能輕柔沖刷固體樣品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的改變,從而達(dá)到對(duì)樣品表面有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗,在極短時(shí)間內(nèi)有機(jī)污染物就被外接真空泵抽走,其清洗能力可以達(dá)到分子級(jí)。在一定條件下還能使樣品表面特性發(fā)生改變。因采用氣體作為清洗處理的介質(zhì),所以能有效避免樣品的再次污染。等離子清洗機(jī)既能加強(qiáng)樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也能對(duì)樣品進(jìn)行消毒和殺菌。等離子清洗機(jī)現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、高分子、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
國產(chǎn)等離子清洗機(jī)是在國外等離子清洗機(jī)價(jià)格貴,難以推廣等缺點(diǎn)的基礎(chǔ)上,吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn),結(jié)合國內(nèi)用戶的使用需求,采用先進(jìn)科技手段開發(fā)出的新型系列等離子清洗機(jī)。該產(chǎn)品除擁有其它等離子清洗器的優(yōu)點(diǎn)外,更具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。產(chǎn)品能適應(yīng)不同用戶對(duì)設(shè)備的特殊要求。清洗艙的材料有耐熱玻璃和不銹鋼可選擇,不銹鋼類清洗艙有圓形和方形可選擇。。
功能:
對(duì)金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對(duì)被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。
優(yōu)點(diǎn)
具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高、操作簡便、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)。
對(duì)各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性。
完全地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
定時(shí)處理、快速處理、清洗效率高。
綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、對(duì)樣品和環(huán)境無二次污染。
在常溫條件下進(jìn)行超清洗,對(duì)樣品非破壞性處理。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)器件、電子元件、半導(dǎo)體元件、激光器件、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗。
清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。
清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗生物芯片、微流控芯片、沉積凝膠的基片。