等離子清洗機(jī)
- 產(chǎn)品編號(hào):TS-PL
- 產(chǎn)品規(guī)格: 等離子清洗機(jī)
- 產(chǎn)品用途:
增加物體的表面能,改善浸潤特性和粘合性
產(chǎn)品介紹
等離子清洗機(jī)原理及特性:
由高能高活性粒子( 電子、離子、自由基、光子、 中性粒子) 組成的等離子體是區(qū)別于常見的固體、 液體和氣態(tài)之外的第四態(tài)。等離子體中的粒子活性高,很容易和固體表面發(fā)生反應(yīng)。通常等離子清洗技術(shù)對(duì)于分子級(jí)別的污染物去除效果明顯,通過等離子清洗將會(huì)顯著增加物體的表面能,改善浸潤特性和粘合性。
等離子清洗屬于一種高精密的干式清洗方式,原理是在真空狀態(tài)下利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將 氧、氬、氫等工藝氣體激發(fā)成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子,通過化學(xué)反應(yīng)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理,實(shí)現(xiàn)分子水平的沾污去除(一般厚度為 3 ~ 30nm),提高表面活性。對(duì)應(yīng)不同的污染物,應(yīng) 采用不同的清洗工藝,達(dá)到最佳的清洗效果。清洗原理見圖 2、圖 3、圖 4 及反應(yīng)式 :
化學(xué)清洗 : 表面反應(yīng)以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子體清洗。
例 1 :O2+e_→ 2O※+e?–
O※+ 有機(jī)物→ CO2+H2O (1)
氧等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可使非揮發(fā)性有機(jī)物變 成易揮發(fā)的 H2O 和 CO2,見圖 2。
例 2 :H2+e_→ 2H※+e?–
H※+ 非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬 +H2O (2)
氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化 層,清潔金屬表面,見圖 3。
物理清洗 :表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗。
例 :Ar+e_→ Ar ++2e?–
Ar++ 沾污→揮發(fā)性沾污 (3)
Ar+在自偏壓或外加偏壓作用下被加速產(chǎn)生動(dòng)能, 轟擊清洗工件表面,去除微顆粒污染物,同時(shí)進(jìn)行表 面能活化,見圖 4。
等離子清洗機(jī)處理前后對(duì)比:
液體在固體材料表面上的接觸角, 是衡量該液體對(duì)材料表面潤濕性能的重要參數(shù),若θ<90°,則固體表面是親水性的,其角越小,表示潤濕性越好;若θ>90°,則固體表面是疏水性的。
達(dá)因值的測量在印刷、涂層、覆膜、焊接等應(yīng)用非常常見,可反映出材料表面容不容易結(jié)合,一般而言,達(dá)因值越大,表面與另一種材料的結(jié)合性能越佳。