隨著HDI板孔徑的微小化,傳統(tǒng)的化學(xué)清洗工藝已不能滿足盲孔結(jié)構(gòu)的清洗,液體表面張力使藥液滲透進孔內(nèi)有困難,特別是在處理激光鉆微盲孔板時,可靠性不好。
目前應(yīng)用于微埋盲孔的孔清洗工藝主要有超生波清洗和等離子體清洗,超聲波清洗主要依據(jù)空化效應(yīng)來達到清洗的目的,屬于濕法處理,清洗時間較長,且依賴于清洗液的去污性能,增加了對廢液的處理問題。
現(xiàn)階段普遍應(yīng)用的工藝主要為等離子體清洗工藝,等離子體處理工藝簡單,對環(huán)境友好,清洗效果明顯,針對盲孔結(jié)構(gòu)非常有效。
等離子體清洗是指高度活化的等離子體在電場的作用下發(fā)生定向移動,與孔壁的鉆污發(fā)生氣固化學(xué)反應(yīng),同時生成的氣體產(chǎn)物和部分未發(fā)生反應(yīng)的粒子被抽氣泵排出。
等離子體在HDI板盲孔清洗時一般分為三步處理,第一階段用高純的N2產(chǎn)生等離子體,同時預(yù)熱印制板,使高分子材料處于一定的活化態(tài);第二階段以O(shè)2、CF4為原始氣體,混合后產(chǎn)生O、F等離子體,與丙烯酸、PI、FR4、玻璃纖維等反應(yīng),達到去鉆污的目的;第三階段采用O2為原始氣體,生成的等離子體與反應(yīng)殘余物使孔壁清潔。
在等離子清洗過程中,除發(fā)生等離子化學(xué)反應(yīng),等離子體還與材料表面發(fā)生物理反應(yīng)。等離子體粒子將材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,有利于清洗蝕刻反應(yīng)。
隨著材料和技術(shù)的發(fā)展,埋盲孔結(jié)構(gòu)的實現(xiàn)將越來越小,越來越精細化;在對盲孔進行電鍍填孔時,使用傳統(tǒng)的化學(xué)除膠渣方法將會越來越困難,而等離子處理的清洗方法能夠很好地克服濕法除膠渣的缺點,能夠達到對盲孔以及微小孔的較好清洗作用,從而能夠保證在盲孔電鍍填孔時達到良好的效果。