產(chǎn)品介紹

基片的清洗和預(yù)處理

OLED對(duì)ITO的要求

表面潔凈；表面平整；功函數(shù)較高。

有機(jī)層與ITO之間界面對(duì)發(fā)光性能的影響至關(guān)重要，ITO玻璃在使用前必須仔細(xì)清洗，目的是除去表面上物理

附著的污物和化學(xué)附著的有機(jī)物等。

ITO表面處理工藝

ITO的不均勻性將導(dǎo)致有機(jī)層不均勻，從而易形成局部強(qiáng)電場(chǎng)引起OLED中黑斑的產(chǎn)生。平整的ITO表面場(chǎng)強(qiáng)均勻，

減小短路的危險(xiǎn)，提高OLED的穩(wěn)定性。

在沉積有機(jī)層之前，ITO表面必須進(jìn)行仔細(xì)的清洗，否則不能得到穩(wěn)定的OLED器件。

ITO 基片處理 ITO For OLED

ITO膜表面形態(tài)對(duì)OLED器件的性能

粗糙的ITO膜表面將使光線產(chǎn)生漫反射,減小出射光效率,降低OLED的外量子效率。

OLED加電壓時(shí),粗糙表面會(huì)影響OLED的內(nèi)電場(chǎng)分布。ITO表面的尖峰將導(dǎo)致局部高電場(chǎng),高電場(chǎng)將使激子解離成為正負(fù)載流子,

致使發(fā)光強(qiáng)度降低;而且高電場(chǎng)將加速有機(jī)材料的惡化,以至降低OLED的穩(wěn)定性。

ITO膜是有機(jī)物膜進(jìn)行淀積的基底, ITO膜的表面形態(tài)將影響有機(jī)膜的成膜的吸附性、內(nèi)應(yīng)力和結(jié)晶度。由于粗糙的表面將不利于有機(jī)分子之間內(nèi)聚形成晶體,

因而粗糙的表面易于形成不定形結(jié)構(gòu)的有機(jī)物薄膜。對(duì)于不定形結(jié)構(gòu)的有機(jī)物來說,結(jié)晶有機(jī)物的出現(xiàn)將增加電子與晶格碰撞的可能性,這將降低OLED器件的發(fā)光效率和能量效率。

等離子體處理

等離子體的作用通常是改變表面粗糙度和提高功函數(shù)。研究發(fā)現(xiàn)，等離子作用對(duì)表面粗糙度的影響不大，只能使ITO的均方根粗糙度從1.8nm降到1.6nm，但對(duì)功函數(shù)的影響卻較大。

用等離子體處理提高功函數(shù)的方法也不盡相同。

氧等離子處理是通過補(bǔ)充ITO表面的氧空位來提高表面氧含量的。